Optični sistem dinamičnega skeniranja: 1-2-kosovna leča z majhnim fokusom, 1-2-kosovna leča z fokusom, galvo ogledalo. Celotna optična leča deluje kot funkcija razširitve, fokusiranja in odklona ter skeniranja žarka.
Razširitveni del je negativna leča, tj. leča z majhnim fokusom, ki omogoča razširitev žarka in premikanje povečave, fokusirna leča pa je sestavljena iz skupine pozitivnih leč. Galvografsko zrcalo je zrcalo v galvanometričnem sistemu.
(1) Optimizacija zasnove leče: Optimalno razmerje med premerom in debelino
(2) Prag visoke poškodbe leče: >30J/cm2 10ns
(3) Premaz z izjemno nizko absorpcijo, stopnja absorpcije: <20 ppm
(4) Razmerje debeline in premera galvanometra: 1:35
(5) Natančnost površine leče: <= λ/5
Post-objektivna leča
| Največja vhodna zenica (mm) | Premer optike 1 (mm) | Premer optike 2 (mm) | Premer optike 3 (mm) | Polje skeniranja (mm) | Prozorna zaslonka skenerja (mm) | Valovna dolžina |
| 8 | 15 | 55 | 55 | 600 x 600 800 x 800 | 30 | 10,6 μm |
| 12 | 22 | 55 | 55 | 1600 x 1600 | 30 | |
| 8 | 16 | 55 | 55 | 600 x 600 800 x 800 | 30 | 1030–1090 nm |
| 8 | 15 | 35 | 35 | 300 x 300 | 10 | 532 nm |
| 8 | 15 | 35 | 35 | 300 x 300 | 10 | 355 nm |
Reflektorsko ogledalo
| Opis dela | Premer (mm) | Debelina (mm) | Material | Premaz |
| Silikonski reflektor | 25,4 | 3 | Silicij | HR@10.6um,Kot izbire: 45° |
| Silikonski reflektor | 30 | 4 | Silicij | HR@10.6um,Kot izbire: 45° |
| Vlaknasti reflektor | 25,4 | 6,35 | Taljeni silicijev dioksid | HR pri 1030–1090 nm, kot izbire: 45° |
| Vlaknasti reflektor | 30 | 5 | Taljeni silicijev dioksid | HR pri 1030–1090 nm, kot izbire: 45° |
| Vlaknasti reflektor | 50 | 10 | Taljeni silicijev dioksid | HR pri 1030–1090 nm, kot izbire: 45° |
| 532 Reflektor | 25,4 | 6 | Taljeni silicijev dioksid | HR pri 515–540 nm/532 nm, kot iskanja: 45° |
| 532 Reflektor | 25,4 | 6,35 | Taljeni silicijev dioksid | HR pri 515–540 nm/532 nm, kot iskanja: 45° |
| 532 Reflektor | 30 | 5 | Taljeni silicijev dioksid | HR pri 515–540 nm/532 nm, kot iskanja: 45° |
| 532 Reflektor | 50 | 10 | Taljeni silicijev dioksid | HR pri 515–540 nm/532 nm, kot iskanja: 45° |
| 355 Reflektor | 25,4 | 6 | Taljeni silicijev dioksid | HR pri 355 nm in 433 nm, kot izbire: 45° |
| 355 Reflektor | 25,4 | 6,35 | Taljeni silicijev dioksid | HR pri 355 nm in 433 nm, kot izbire: 45° |
| 355 Reflektor | 25,4 | 10 | Taljeni silicijev dioksid | HR pri 355 nm in 433 nm, kot izbire: 45° |
| 355 Reflektor | 30 | 5 | Taljeni silicijev dioksid | HR pri 355 nm in 433 nm, kot izbire: 45° |
Galvo ogledalo
| Opis dela | Največja vhodna zenica (mm) | Material | Premaz | Valovna dolžina |
| 55 mmD*35 mmŠ*3,5 mmV-X 62 mmD*43 mmŠ*3,5 mmV-Y | 30 | Silicij | MMR@10.6um | 10,6 μm |
| 55 mmD*35 mmŠ*3,5 mmV-X 62 mmD*43 mmŠ*3,5 mmV-Y | 30 | Taljeni silicijev dioksid | HR pri 1030–1090 nm | 1030–1090 nm |
| 55 mmD*35 mmŠ*3,5 mmV-X 62 mmD*43 mmŠ*3,5 mmV-Y | 30 | Taljeni silicijev dioksid | HR pri 532 nm | 532 nm |
| 55 mmD*35 mmŠ*3,5 mmV-X 62 mmD*43 mmŠ*3,5 mmV-Y | 30 | Taljeni silicijev dioksid | HR pri 355 nm | 355 nm |
Zaščitna leča
| Premer (mm) | Debelina (mm) | Material | Premaz |
| 75 | 3 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
| 80 | 3 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
| 90 | 3 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
| 90 x 60 | 5 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
| 90 x 64 | 2,5 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
| 90 x 70 | 3 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
